彤程新材11月5日公告，年產1.1萬噸半導體、平板顯示用光刻膠及2萬噸相關配套試劑項目工程階段已竣工，目前已逐步進入試生產階段。公司上?；瘜W工業區工廠占地36200平方米，設計能力年產1千噸半導體光刻膠、1萬噸顯示用光刻膠和2萬噸高純EBR試劑（光刻膠去邊劑）。同時在國際國內半導體廠商及光刻膠廠商戰略合作推動下，完成了產線優化及品控升級。此前公告，公司決定通過全資子公司上海彤程電子材料有限公司在上?；瘜W工業區投資建設該項目。

目前項目產品部分原料仍需要外購，同時產品對原料質量和純度水平要求較高，面臨原料價格波動、質量受限或者供應商相關政策波動等風險。

公司上?；瘜W工業區工廠年產1千噸半導體光刻膠量產產線，主要包括年產300/400噸ArF及KrF光刻膠量產產線，通過采用超高純PFA（涂層）設備、引入高精度物料流量控制系統、配以自研的高精度高效率光刻過濾系統，可以實現ppt級金屬雜質及0.1um級別的顆粒管控，具備不同配方先進制程光刻膠的生產能力。

在ArF光刻膠產品方面，公司已經完成ArF光刻膠部分型號的開發，首批ArF光刻膠的各項出貨指標能對標國際光刻膠大廠產品，已具備量產能力，目前處于量產前的光刻工藝測試及產品驗證階段，能否驗證通過尚存在一定的不確定性。產能可同時供應國內大部分芯片制造商，能較好地滿足國內先進制程光刻膠的部分需求。

目前，公司G線光刻膠已經占據國內較大的市場份額；I線光刻膠已廣泛應用于國內6"、8"、12"集成電路產線，支持的工藝制程涵蓋14nm及以上工藝。KrF光刻膠量產品種達20種以上，穩定供應國內頭部芯片制造商。