負(fù)責(zé)監(jiān)督新型光刻機(jī)開發(fā)的佳能高管武石洋明1月27日接受采訪稱，采用納米壓印技術(shù)的佳能光刻設(shè)備FPA-1200NZ2C目標(biāo)今年或明年出貨。
佳能于去年10月宣布推出FPA-1200NZ2C，稱其可制造5納米芯片。佳能方面表示，這款新設(shè)備的成本“將比ASML的EUV少一位數(shù)”，耗電量也會(huì)減少90%。（英國(guó)金融時(shí)報(bào)）
佳能：目標(biāo)最快今年開始交付低成本納米壓印設(shè)備
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